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面向类脑计算的低电压忆阻器研究进展综述

分类:深度报告 | 发布日期:2024-12-01 | 来源:物理学报(中科院物理所)
📌 本文内容转载自「物理学报(中科院物理所)」,原文链接:https://wulixb.iphy.ac.cn/pdf-content/10.7498/aps.73.20241022.pdf ,版权归原作者所有。

《物理学报》刊发综述文章,系统总结面向类脑计算的低电压忆阻器研究进展。文章指出,构筑电压低于1V的低电压、高性能忆阻器,是实现类脑计算能效系统的关键问题。

综述阐述了电化学金属化与价态变化两大机制,总结了过渡金属氧化物、二维材料和有机材料三大材料体系的优势,并围绕材料工程、掺杂工程、界面工程提出低电压实现策略。

文中列举多项代表性成果:Au/h-BN/Au器件在0.1V电压下实现10⁷高开/关比;Ag/GeTe/MoTe₂/Pt异质结开关电压低至0.15V;Pt/DDP-CuNPs/Au器件实现4mV超低阈值开关。低电压器件与生物神经系统电压范围匹配,在可穿戴电子、脑机接口等领域尤为重要。

IV SET(低阻态) RESET(高阻态) 忆阻器典型 I-V 滞回曲线:阻值"记忆"历史电荷
▲ 示意图:面向类脑计算的低电压忆阻器研究进展综述
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